Nitrogen Trifluoride (NF3) Héich Puritéit Gas
Basis Informatiounen
| CAS | 7783-54-2 |
| EC | 232-007-1 |
| UN | 2451 |
Wat ass dëst Material?
Stickstofftrifluorid (NF3) ass e faarwege a Gerochlosen Gas bei Raumtemperatur an Atmosphärendrock. Et kann ënner moderaten Drock flësseg ginn. NF3 ass stabil ënner normalen Konditiounen an zersetzt net einfach. Wéi och ëmmer, et kann zersetzen wann se op héijen Temperaturen ausgesat ass oder a Präsenz vu bestëmmte Katalysatoren. NF3 huet en héicht globale Erwiermungspotenzial (GWP) wann se an d'Atmosphär fräigelooss ginn.
Wou dëst Material ze benotzen?
Botzmëttel an der Elektronikindustrie: NF3 gëtt wäit benotzt als Botzmëttel fir d'Restverschmotzung, wéi Oxiden, vun den Surfaces vun Hallefleitungen, Plasma Display Panelen (PDPs) an aner elektronesch Komponenten ze entfernen. Et kann dës Flächen effektiv botzen ouni se ze beschiedegen.
Ätsgas an der Halbleiterfabrikatioun: NF3 gëtt als Ätzgas am Fabrikatiounsprozess vun Halbleiter benotzt. Et ass besonnesch effektiv fir Siliziumdioxid (SiO2) a Siliziumnitrid (Si3N4) ze Ätzen, déi allgemeng Materialien sinn, déi an der Fabrikatioun vun integréierte Circuiten benotzt ginn.
Produktioun vu Fluorverbindungen mat héijer Rengheet: NF3 ass eng wäertvoll Quell vu Fluor fir d'Produktioun vu verschiddene Fluorhaltege Verbindungen. Et gëtt als Virgänger an der Produktioun vu Fluoropolymere, Fluorocarbonen a Spezialchemikalien benotzt.
Plasma Generatioun an der Fabrikatioun vu flaach Panel Display: NF3 gëtt zesumme mat anere Gase benotzt fir Plasma an der Produktioun vu flaach Panel Displays ze kreéieren, sou wéi Liquid Crystal Displays (LCDs) a PDPs. De Plasma ass wesentlech an der Oflagerung an Ätsprozesser wärend der Panelfabrikatioun.
Bedenkt datt spezifesch Uwendungen a Reglementer fir d'Benotzung vun dësem Material / Produkt no Land, Industrie an Zweck variéiere kënnen. Follegt ëmmer Sécherheetsrichtlinnen a konsultéiert en Expert ier Dir dëst Material / Produkt an all Applikatioun benotzt.
